[发明专利]用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途在审

专利信息
申请号: 201780029596.X 申请日: 2017-03-03
公开(公告)号: CN109072003A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: N.E.伊瓦莫托;J.T.肯尼迪;D.瓦拉普拉萨德;S.穆霍帕迪亚伊;谢松元 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D7/63
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 马蔚钧;万雪松
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种组合物包含溶剂、催化剂、包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。示例性的交联剂包括双甲硅烷基苯、双烷氧基硅烷、1,3‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,4‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑萘、9,10‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑蒽和1,6‑双(三甲氧基甲硅烷基)‑芘。
搜索关键词: 甲硅烷基 三乙氧基 交联剂 苯基 三甲氧基甲硅烷基 聚硅氧烷配制物 光电子应用 甲硅烷基亚 双甲硅烷基 聚硅氧烷 双烷氧基 亚苯基 溶剂 侧基 硅烷 催化剂 制备
【主权项】:
1.一种组合物,其包含:溶剂;催化剂;包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷;和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。
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