[发明专利]用于离子注入的掺杂剂组合物有效
| 申请号： | 201780029981.4 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN109362231B | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | A·雷伊尼克尔;A·K·辛哈 | 申请（专利权）人： | 普莱克斯技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张慧;林毅斌 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于离子注入的改进组合物。该组合物包含掺杂剂源和助剂物质，其中助剂物质与掺杂剂气体组合产生所需掺杂剂离子的束电流。选择助剂物质的标准基于以下性质的组合：电离能，总电离截面，键离解能与电离能比和某种组成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 注入 掺杂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种组合物，所述组合物适用于离子注入机用于产生非碳目标离子物质以产生离子束电流，所述组合物包含：a.掺杂剂源，所述掺杂剂源包括所述非碳目标离子物质；b.助剂物质，所述助剂物质包含：(i)与所述掺杂剂源的电离能相比的较低电离能；(ii)大于![]()
的总电离截面(TICS)；(iii)0.2或更高的所述助剂物质的最弱的键的键离解能(BDE)与所述助剂物质的所述较低电离能的比；以及(iv)由不存在所述非碳目标离子物质表征的组合物；其中所述掺杂剂源和所述助剂物质占据所述离子注入机并在其中相互作用以产生所述非碳目标离子物质。
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