[发明专利]投影曝光装置及投影曝光方法

摘要

一种投影曝光装置，具有：滑动载物台(120)，形成有用于载置工件的多个区域(110、111)；第一装载器(310)和第二装载器(311)，能够装载以及卸载工件(510、511)；第一位置检测设备(210)；第二位置检测设备(211)；控制光源(10)、光掩模(20)以及投影光学系统(50)；以及控制部(410)，控制滑动载物台(120)以及各部，在对载置于第二区域(111)内的工件(511)进行投影曝光时，控制部(410)实施对载置于第一区域(110)内的工件(510)的载置位置进行检测的并行处理，在对载置于第一区域(110)内的工件(510)进行投影曝光时，控制部(410)实施对载置于第二区域(111)内的工件(511)的载置位置进行检测的并行处理。

主权项

1.一种投影曝光装置，使光掩模的规定图案与工件上的规定位置对准并利用来自于光源的光进行投影曝光，由此在所述工件上形成所述规定图案，其中，所述投影曝光装置具有：滑动载物台，在载置所述工件的部位的顶面上，以两个工件不重叠且能够同时载置两个工件的方式形成有第一区域和第二区域两个区域，所述滑动载物台能够交替向彼此相反的方向滑动并且能够临时停止在各个所述方向的端部的规定的第一停止位置与第二停止位置上；两个第一装载器，能够对所述滑动载物台的各个所述区域内单独地装载及卸载各个所述工件；第一位置检测设备，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第一停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第一区域的正上部，以检测在该第一区域内载置的工件的载置位置；第二位置检测设备，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第二停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第二区域的正上部，以检测在该第二区域内载置的工件的载置位置；光源、光掩模以及投影光学系统，在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第一停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第二区域的正上部，能够对载置于该第二区域内的所述工件进行投影曝光，并且在所述滑动载物台临时停止在规定的所述第二停止位置的情况下，配置在所述滑动载物台的所述第一区域的正上部，能够对载置于该第一区域内的所述工件进行投影曝光；以及控制部，对如下各个处理进行控制：所述滑动载物台的滑动和在各个停止位置上的停止、由第一装载器对各个区域内进行的工件的装载和卸载、由所述位置检测设备进行的各个区域内的工件的载置位置的检测、以及由所述光源、光掩模以及投影光学系统进行的对各个区域内的工件的投影曝光，所述控制部实施并行处理，即，当通过所述光源、光掩模以及投影光学系统对载置于所述第二区域内的工件进行投影曝光时，并行地通过所述位置检测设备检测在所述第一区域内载置的工件的载置位置，相反地，当通过所述光源、光掩模以及投影光学系统对在所述第一区域内载置的工件进行投影曝光时，并行地通过所述位置检测设备检测载置于所述第二区域内的工件的载置位置。