[发明专利]化学传感器在审
申请号: | 201780033376.4 | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN109564159A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | R·H·霍普尔;A·德卢卡;K·莱蒂斯;S·Z·艾利;M·F·乔杜里 | 申请(专利权)人: | AMS传感器英国有限公司 |
主分类号: | G01N21/3504 | 分类号: | G01N21/3504;G01N33/00;G01N21/03;G01J5/08 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 刘亭亭;陈小莲 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 我们公开了一种用于检测流体的化学传感装置。该传感装置包含:包括至少一个蚀刻部分的至少一个基底区域(1);形成在所述至少一个基底区域上的介电区域(3),所述介电区域包括与所述至少一个蚀刻部分相邻的至少一个介电膜区域(3);用于发射红外(IR)信号的光源(2);用于检测从所述光源发出的IR信号的光学检测器(4);形成在所述介电区域之上或之下的一个或多个另外的基底(6),所述一个或多个另外的基底限定用于IR信号从所述光源传播到所述光学检测器的光路。所述光源和所述光学检测器中的至少一个形成在所述介电膜区域之中或之上。 | ||
搜索关键词: | 光源 光学检测器 介电区域 蚀刻 基底区域 介电膜 化学传感装置 化学传感器 传感装置 检测 流体 光路 基底 发射 传播 | ||
【主权项】:
1.一种用于检测流体的化学传感装置,所述传感装置包括:包含至少一个蚀刻部分的至少一个半导体基底区域;形成在所述至少一个基底区域上的介电区域,其中,所述介电区域包含与所述至少一个蚀刻部分相邻的至少一个介电膜区域;用于发射红外(IR)信号的光源;用于检测从所述光源发出的IR信号的光学检测器;形成在所述介电区域之上或之下的一个或多个另外的基底,其中,所述一个或多个另外的基底限定用于IR信号从光源传播到光学检测器的光路;以及其中,所述光源和所述光学检测器中的至少一个至少部分地形成在所述介电膜区域之中或之上。
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