[发明专利]修饰模板双链多核苷酸以用于表征的方法有效
| 申请号： | 201780034561.5 | 申请日： | 2017-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN109219665B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 戴维·杰克逊·斯托达特;詹姆斯·怀特 | 申请（专利权）人： | 牛津纳米孔技术公司 |
| 主分类号： | C12Q1/6806 | 分类号： | C12Q1/6806 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 关浩;臧建明 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及修饰模板双链多核苷酸的方法，特别是用于使用纳米孔测序的表征。该方法从模板产生多个修饰的双链多核苷酸。然后可以表征这些修饰的多核苷酸。 | ||
| 搜索关键词： | 修饰 模板 多核苷酸 用于 表征 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于修饰模板双链多核苷酸的方法，包括：(a)使模板多核苷酸与MuA转座酶和双链MuA底物群接触，每个底物在一条链的一端或两端包含突出端，使得转座酶将模板多核苷酸片段化并将底物连接到双链片段的一端或两端，从而产生多个片段/底物构建体；和(b)使用转位酶从构建体中除去MuA转座酶，从而产生多个修饰的双链多核苷酸。
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