[发明专利]光学膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780035284.X 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN109312453B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 首藤俊介;佐木晓 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/56;G02B1/115
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 当在膜基材上形成多层光学薄膜的光学膜的制造的预备成膜时,通过对多个溅镀室同时通电来在膜基材上形成两个以上的不同种类材料的薄膜的层叠体,并且根据由设置于溅镀装置内的光学测定部(80)得到的光学特性计算多个薄膜的膜厚。重复进行膜厚的测定和薄膜的成膜条件的调整直至由光学测定部得到的光学特性或根据光学特性计算的多个薄膜的膜厚处于规定范围内为止。
搜索关键词: 光学 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学膜的制造方法,在沿着膜基材的搬送方向具备多个溅镀室的溅镀成膜装置内,一边连续地搬送膜基材一边在膜基材上形成包含多个薄膜的多层光学薄膜,所述溅镀成膜装置具备光学测定部,所述光学测定部用于测定在膜基材上形成有薄膜的层叠体的光学特性,在该光学膜的制造方法中,在所述溅镀成膜装置内实施一边在膜基材上形成薄膜一边进行成膜条件的调整的预备成膜,之后实施在膜基材上形成所述多层光学薄膜的主成膜,在所述预备成膜中至少实施一次调整步骤,在所述调整步骤中,一边在膜基材上至少形成一层薄膜,一边根据由所述光学测定部得到的光学特性计算薄膜的膜厚,并基于膜厚的计算结果进行成膜条件的调整,在所述调整步骤中的至少一次中,通过对多个溅镀室同时通电来在膜基材上形成两个以上的不同种类材料的薄膜的层叠体,根据由所述光学测定部得到的光学特性计算多个薄膜的膜厚,并进行各个薄膜的成膜条件的调整,直至由光学测定部得到的光学特性或根据光学特性计算的多个薄膜的膜厚处于规定范围内为止。
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