[发明专利]多层膜的成膜方法有效
申请号: | 201780035580.X | 申请日: | 2017-06-02 |
公开(公告)号: | CN109312455B | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 佐木晓;首藤俊介 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;G01B11/06;G02B1/115;G02B5/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 高精度地估计多层膜的各层的膜厚。设定各层的目标膜厚值。求出各层为目标膜厚值时的第一理论光学值。测定多层膜(6)的实测光学值。将目标膜厚值设为各层的膜厚的第一估计膜厚值。求出实测光学值与第一理论光学值之差(第一光学值差),并将第一光学值差与预先设定的收敛条件进行比较。在第一光学值差不满足收敛条件的情况下,设定各层的第二估计膜厚值,其中,该第二估计膜厚值被预测为比第一光学值差小的光学值差。求出各层的膜厚为第二估计膜厚值时的光学特性的理论值(第二理论光学值)。求出实测光学值与第二理论光学值之差(第二光学值差),并将第二光学值差与收敛条件进行比较。重复进行各步骤,来获得实测光学值与各步骤的理论光学值之差满足收敛条件的各层的估计膜厚值(最精准估计膜厚值)。 | ||
搜索关键词: | 多层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多层膜的成膜方法,包括以下工艺,重复进行下面的步骤:设定多层膜的各层的膜厚的目标值即目标膜厚值;求出所述各层的膜厚为所述目标膜厚值时的光学特性的理论值即第一理论光学值;测定所形成的多层膜的光学特性的实测值即实测光学值;将所述目标膜厚值设为所形成的所述各层的膜厚的第一估计膜厚值;求出所述实测光学值与所述第一理论光学值之差即第一光学值差,并将所述第一光学值差与预先设定的收敛条件进行比较;在所述第一光学值差不满足所述收敛条件的情况下,设定所述各层的膜厚的第二估计膜厚值,其中,该第二估计膜厚值被预测为能够获得比所述第一光学值差小的光学值差;求出所述各层的膜厚为所述第二估计膜厚值时的光学特性的理论值即第二理论光学值;以及求出所述实测光学值与所述第二理论光学值之差即第二光学值差,并将所述第二光学值差与所述收敛条件进行比较,重复进行上述的各步骤,来求出所述实测光学值与各步骤的理论光学值之差满足所述收敛条件的所述各层的估计膜厚值,其中,将满足所述收敛条件的所述各层的估计膜厚值设为所形成的所述各层的最精准的估计膜厚值即最精准估计膜厚值。
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