[发明专利]CVD涂层切削工具有效
申请号: | 201780036447.6 | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN109312474B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 扬·恩奎斯特;埃里克·林达尔;拉卢卡·莫尔然布伦宁;埃内斯托·科罗内尔 | 申请(专利权)人: | 山特维克知识产权股份有限公司 |
主分类号: | C23C30/00 | 分类号: | C23C30/00;C23C28/04;C23C16/02;C23C16/36;C23C16/40;C23C16/44 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 郭国清;穆德骏 |
地址: | 瑞典桑*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及一种用于金属的切屑成形加工的涂层切削工具,其包含具有涂覆有化学气相沉积(CVD)涂层的表面的基材。所述涂层切削工具包含涂覆有包含α‑Al |
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搜索关键词: | cvd 涂层 切削 工具 | ||
【主权项】:
1.一种涂层切削工具,其包含涂覆有涂层的基材,所述涂层包含α‑Al2O3层,其中所述α‑Al2O3层的厚度为2μm至4μm,并且其中所述α‑Al2O3层表现出如通过X射线衍射使用CuKα辐射和θ‑2θ扫描所测量的织构系数TC(hkl),所述织构系数TC(hkl)根据Harris公式定义:
其中I(hkl)是(hkl)反射的测量强度(积分面积),I0(hkl)是根据ICDD的00‑010‑0173号PDF卡的标准强度,n是所述计算中使用的反射的次数,并且其中使用的(hkl)反射是(1 0 4)、(1 1 0)、(1 1 3)、(0 2 4)、(1 1 6)、(2 1 4)、(3 0 0)和(0 0 12),其中TC(0 0 12)≥7.2,且其中I(0 0 12)/I(0 1 14)的比≥0.8,且其中所述涂层还包含MTCVD TiCN层,所述MTCVD TiCN层位于所述基材和所述α‑Al2O3层之间,其中所述MTCVD TiCN层的厚度为2μm至3μm,并且其中所述MTCVD TiCN层在所述MTCVD TiCN层的平行于所述涂层的外表面、且距所述MTCVD TiCN的外表面小于1μm的一部分中表现出如通过EBSD测量的{211}极图,其中在从所述涂层外表面的法线起0°≤β≤45°的倾斜角范围内,在0.25°的取向差角下,基于所述极图的数据的极点图显示出在β≤15°倾斜角内的强度与在0°≤β≤45°内的强度的比≥45%。
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