[发明专利]用于4D成像的多射束X射线暴露的系统和方法有效
| 申请号： | 201780036449.5 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN109310384B | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | G·福格特米尔;K·J·恩格尔;M·格拉斯;B·门瑟;H·施泰因豪泽;A·法齐;H·斯特格胡伊斯;D·谢弗 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了一种介入X射线系统，所述系统包括被定位在患者检查台下面的多X射线源单元。该“多块”可以包括具有沿着x‑y(检查台)平面分布的焦斑位置的若干X射线源。X射线源能以切换方案操作，其中，某些X射线源可以被并行地激活，并且在这样的组之间的顺序切换也是预期的。切换可以被执行，使得具有不同投影角度的若干图像能够被并行地采集。换言之，最佳的多射束X射线暴露被建议，其中，在一个维度上的快速切换和在第二维度上的同时暴露被应用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 多射束 射线 暴露 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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