[发明专利]用于确定衬底上目标结构的位置的方法和设备、用于确定衬底的位置的方法和设备有效
| 申请号： | 201780036588.8 | 申请日： | 2017-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN109313405B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | F·G·C·比杰南;A·H·M·博舒沃斯;J·奥努勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 诸如在半导体衬底(400)上的对准标记之类的目标结构(402)因不透明层(408)变得模糊，从而其无法由对准传感器(AS)定位。使用边缘位置传感器(412)确定标记的位置，以及在不透明层形成之前存储限定了标记相对于衬底的一个或多个边缘部分的位置的相对位置信息。基于所确定的位置，可以在不透明层中打开窗口(410)。在暴露目标结构之后，如果希望的话，则对准传感器可以更精确地测量目标结构的位置，以用于控制进一步光刻步骤。边缘位置传感器可以是具有角度选择性行为的相机。边缘位置传感器可以集成在对准传感器硬件内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 衬底 目标 结构 位置 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种在衬底上定位目标结构的方法，标记由上层结构遮蔽，所述方法包括：(a)提供相对位置信息，所述相对位置信息限定所述标记的、相对于所述衬底的一个或多个边缘部分的位置，所述相对位置信息在形成所述上层结构之前已被限定；(b)在形成所述上层结构之后，测量所述边缘部分的位置；以及(c)基于在步骤(b)中测量的所述边缘部分的位置和在步骤(a)中提供的所述相对位置信息，获得所述目标结构的位置；其中在步骤(a)和步骤(b)中的一个或两者中，通过使用相机获取所述衬底的边缘区域的图像，测量所述边缘部分的位置，以及其中所述相机的光学系统是角度选择性的，从而所述边缘区域的具有特定斜角的一部分在所述图像中被增强。
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