[发明专利]电场放射装置和改质处理方法

摘要

发射器(3)和靶(7)布置成在真空室(1)中彼此面对，并且保护电极(5)在发射器(3)的电子生成部分(31)的外周侧提供。保护电极(5)由保护电极支撑单元(6)能移动地在真空室(1)的两端方向上支撑。为了执行保护电极(5)的改质处理，通过操作保护电极支撑单元(6)将保护电极(5)移动到开口(22)侧(移动到分离位置)，并且设置电子生成部分(31)的场发射被抑制的状态，然后通过跨保护电极(5)施加电压来重复放电。在执行改质处理之后，通过再次操作保护电极支撑单元(6)，保护电极(5)移动到开口(21)侧(移动到发射器位置)，并且设置能够进行电子生成部分(31)的场发射的状态。

主权项

1.一种电场放射装置，包括：/n真空外壳，其是通过密封筒状绝缘体的两个端侧并在所述绝缘体的内壁侧具有真空室而形成的；/n发射器，位于所述真空室的一个端侧，并且具有面向所述真空室的另一个端侧的电子生成部分；/n保护电极，在所述发射器的所述电子生成部分的外周侧提供；/n靶，位于所述真空室的所述另一个端侧并且面向所述发射器的所述电子生成部分；以及/n能移动的保护电极支撑单元，在所述真空室的两端方向上能移动地支撑所述保护电极，并且其中/n所述保护电极支撑单元被构造成通过所述保护电极支撑单元的移动来改变所述发射器的所述电子生成部分与所述保护电极之间的距离，/n所述保护电极具有在所述真空室的所述两端方向上在所述发射器的外周侧延伸的筒状形状，并且/n所述保护电极的靶侧通过所述保护电极支撑单元的移动而移动并且与所述发射器的所述电子生成部分接触和分离。/n