[发明专利]用无汞基紫外光处理流体的系统在审
| 申请号： | 201780037792.1 | 申请日： | 2017-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN109476514A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 乔纳斯·迪伦 | 申请（专利权）人： | 光学实验室公司（瑞典） |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;A61L9/20;H01J61/00 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 刘晓春 |
| 地址： | 瑞典乌*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明一般涉及用于处理流体的系统，并且具体地涉及配置用于改善细菌减少的处理系统，其中该系统包括基于场发射的UV光源，其适于在紫外线C（UVC）光谱内发光，其波长范围与汞基UV光源所发射的光相比具有更高的上限范围。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光处理 处理流体 处理系统 细菌减少 场发射 波长 紫外线 流体 汞基 光谱 无汞 发光 发射 配置 | ||
【主权项】：
1.一种处理流体的系统，包括： ‑ 容器，所述容器布置为接收一定量的流体； ‑ 容纳在容器内的第一UV光源，所述第一UV光源是基于无汞场发射的UV光源；以及 ‑ 可操作地与第一UV光源相关联的电源，所述电源布置为向第一UV光源提供电力，以使用第一UV光源处理腔室内接收的流体量，其中，调适第一UV光源在紫外线C（UVC）光谱内发光，其波长范围与汞基UV光源所发射的光相比具有更高的上限范围。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光学实验室公司（瑞典），未经光学实验室公司（瑞典）许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780037792.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：通过膨胀石墨处理含有烃的水的方法
- 下一篇：用于水处理的一次性使用胶囊
