[发明专利]使用固体碘化铝(AlI3 有效
申请号: | 201780038149.0 | 申请日: | 2017-06-21 |
公开(公告)号: | CN109312452B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 丹尼斯·卡梅尼察;理查德·雷舒特;费尔南多·席尔瓦;尼尔·科尔文 | 申请(专利权)人: | 艾克塞利斯科技公司 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;H01J37/317;H01L21/265 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 刘新宇;寿宁 |
地址: | 美国马萨诸*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供离子注入系统和方法,用于由碘化铝形成离子束。水蒸汽源进一步引入水与残余碘化铝反应形成氢碘酸,其中从系统中排空残余碘化铝和氢碘酸。 | ||
搜索关键词: | 使用 固体 碘化 ali base sub | ||
【主权项】:
1.一种离子注入系统,包括:离子源,其配置成从碘化铝形成离子束;束线总成,其配置成选择性输送所述离子束;以及终端站,其配置成接受所述离子束,用于将铝离子注入工件中;输水系统,其配置成将水或水蒸汽引入所述离子源、所述束线总成和所述终端站中的一个或多个,其中所述输水系统配置成使水或水蒸汽与所述离子源、所述束线总成和所述终端站中的一个或多个的一个或多个内表面上形成的残余碘化铝反应;以及真空系统,其配置成基本上排空所述离子源、所述束线总成和所述终端站中的一个或多个,其中所述真空系统进一步配置成基本上从各自的离子源、束线总成和终端站除去水或水蒸汽与反应的残余碘化铝的一种或多种反应产物。
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