[发明专利]用于处理颗粒物质的设备和方法

摘要

本发明涉及用于根据原子层沉积方法的原理、通过使颗粒物质暴露于至少第一气态前体和第二气态前体的连续表面反应来处理颗粒物质的设备和方法。设备包括真空室(1)、用于颗粒物质的反应室(2)、用于使反应室(2)内的颗粒物质振动的振动机构(3)以及前体系统(4)，反应室(2)设置在真空室(1)内侧，前体系统(4)布置成供应至少第一气态前体和第二气态前体穿过反应室(2)，以便使颗粒物质处于至少第一气态前体和第二气态前体中。方法包括以下步骤：供应至少第一气态前体和第二气态前体穿过反应室(2)，以便使颗粒物质处于至少第一气态前体和第二气态前体中，以及使反应室(2)内的颗粒物质振动。

主权项

1.一种用于根据原子层沉积方法的原理对颗粒物质进行处理的设备，所述处理通过使所述颗粒物质暴露于至少第一气态前体和第二气态前体的连续表面反应而进行，其特征在于，所述设备包括：真空室(1)；用于颗粒物质的反应室(2)，所述反应室(2)设置在所述真空室(1)内侧；振动机构(3)，所述振动机构用于使所述反应室(2)内的颗粒物质振动；以及前体系统(4)，所述前体系统(4)布置成供应所述至少第一气态前体和第二气态前体穿过所述反应室(2)，以便使所述颗粒物质处于所述至少第一气态前体和第二气态前体中，所述前体系统(4)包括入口(4a)并且所述前体系统(4)布置在所述真空室(1)外侧，使得所述入口(4a)布置成行经所述真空室(1)并且通向所述反应室(2)。