[发明专利]包含含胺的表面活性剂的抛光组合物有效
| 申请号： | 201780038695.4 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN109415597B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | A.W.海因斯;李常怡 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉;邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供化学‑机械抛光组合物，其包含：(a)湿法氧化铈研磨剂，(b)包含含胺的锚定基团及亚乙基氧‑亚丙基氧稳定化基团的表面活性剂，其中该表面活性剂具有约1000道尔顿至约5000道尔顿的分子量，(c)芳族羧酸或杂芳族羧酸，及(d)水，其中该抛光组合物具有约3至约6的pH。本发明进一步提供利用本发明化学机械抛光组合物来化学机械抛光基板的方法。典型地，所述基板含有硅氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 表面活性剂 抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.化学‑机械抛光组合物，包含：(a)湿法氧化铈研磨剂，(b)包含含胺的锚定基团及亚乙基氧‑亚丙基氧稳定化基团的表面活性剂，其中该表面活性剂具有约1000道尔顿至约5000道尔顿的平均分子量，(c)芳族羧酸或杂芳族羧酸，及(d)水，其中该抛光组合物具有约3至约6的pH。
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