[发明专利]光致抗蚀剂图案缩小组合物与图案缩小方法有效
| 申请号： | 201780038755.2 | 申请日： | 2017-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN109313401B | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 李昇勋;李昇炫;李秀珍;金起洪 | 申请（专利权）人： | 荣昌化学制品株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/004;G03F7/038;C11D11/00;C11D3/43;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，在半导体制造工艺中提供利用光致抗蚀剂可缩小(Shrink)光致抗蚀剂图案的光致抗蚀剂图案缩小用组合物与利用该组合物的图案缩小方法，在形成光致抗蚀剂图案时，缩小要形成的图案，大幅度减少半导体制造工艺的工艺数量，不仅如此还节省制造时间以及制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 图案 缩小 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂图案缩小用组合物，包含20至80重量％的可缩小光致抗蚀剂图案的物质、20至80重量％的溶剂、0至2重量％的表面活性剂，其特征在于，表面活性剂从由聚氧乙烯烷基苯基醚类、聚氧乙烯壬基苯醚类、聚氧乙烯辛基苯醚类、聚氧乙烯聚氧丙烯类、聚氧乙烯十二烷基醚类、聚氧乙烯山梨聚糖类选择的一种或者两种以上的混合物构成的群组中选择。
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