[发明专利]光学装置、显示体、带显示体的装置、滤光镜、以及光学装置的制造方法在审
申请号: | 201780039380.1 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN109328314A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 川下雅史;波木井秀充 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;B32B3/30;B32B15/08;B42D25/328;B42D25/373;G02B5/20;G02B5/28;G09F19/12 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海涛;孙微 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种光学装置,具备:具有基准面的支持部;以及具备多个周期要素并作为电介质的周期结构体,其中所述多个周期要素在基准面上排列为具有亚波长周期的二维点阵状,并且是从基准面突出的凸部以及从基准面凹陷的凹部中的任一者。进一步地,光学装置具备位于周期结构体的表面、且具有跟随周期结构体的表面形状的形状的金属层,其中该周期结构体的表面是包括所述周期要素的表面以及基准面当中的包围周期要素的区域的面。 | ||
搜索关键词: | 周期结构体 光学装置 基准面 显示体 电介质 亚波长周期 二维点阵 金属层 滤光镜 凹陷 凹部 凸部 包围 制造 | ||
【主权项】:
1.一种光学装置,具备:具有基准面的支持部;具备多个周期要素并作为电介质的周期结构体,其中所述多个周期要素在所述基准面上排列为具有亚波长周期的二维点阵状、并且是从所述基准面突出的凸部以及从所述基准面凹陷的凹部中的任一者;以及位于所述周期结构体的表面、且具有跟随所述周期结构体的表面形状的形状的金属层,其中所述周期结构体的表面是包括所述周期要素的表面以及所述基准面当中的包围所述周期要素的区域的面。
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