[发明专利]奥氏体合金材和奥氏体合金管在审
| 申请号： | 201780040911.9 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN109415796A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 正木康浩;竹田贵代子;小薄孝裕 | 申请（专利权）人： | 新日铁住金株式会社 |
| 主分类号： | C23C8/18 | 分类号： | C23C8/18;B01J23/26;B01J23/28;B01J23/652;B01J23/86;C22C19/05;C22C30/02;C23C18/12;C23C18/38;C23C28/00;C23C28/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种奥氏体合金材，其在母材所具有的表面中的至少一部分具备厚度0.1～50μm的包含铬氧化物的覆膜，前述覆膜的Cr浓度成为最大的深度位置处的化学组成以在除O、C和N之外的成分中所占的比率计、以原子％计含有Cr：50％以上，前述母材的化学组成以质量％计为C：0.001～0.6％、Si：0.01～5.0％、Mn：0.1～10.0％、P：0.08％以下，S：0.05％以下，Cr：15.0～55.0％、Ni：30.0～80.0％、N：0.001～0.25％、O：0.02％以下，Mo：0～20.0％、Cu：0～5.0％、Co：0～5.0％、W：0～10.0％、Ta：0～6.0％、Nb：0～5.0％、Ti：0～1.0％、B：0～0.1％、Zr：0～0.1％、Hf：0～0.1％、Al：0～1.0％、Mg：0～0.1％、Ca：0～0.1％、余量：Fe和杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 奥氏体合金 化学组成 覆膜 母材 铬氧化物 深度位置 | ||
【主权项】：
1.一种奥氏体合金材，其在母材所具有的表面中的至少一部分具备厚度0.1～50μm的包含铬氧化物的覆膜，所述覆膜的Cr浓度成为最大的深度位置处的化学组成以在除O、C和N之外的成分中所占的比率计、以原子％计含有Cr：50％以上，所述母材的化学组成以质量％计为C：0.001～0.6％、Si：0.01～5.0％、Mn：0.1～10.0％、P：0.08％以下、S：0.05％以下、Cr：15.0～55.0％、Ni：30.0～80.0％、N：0.001～0.25％、O：0.02％以下、Mo：0～20.0％、Cu：0～5.0％、Co：0～5.0％、W：0～10.0％、Ta：0～6.0％、Nb：0～5.0％、Ti：0～1.0％、B：0～0.1％、Zr：0～0.1％、Hf：0～0.1％、Al：0～1.0％、Mg：0～0.1％、Ca：0～0.1％、余量：Fe和杂质。
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