[发明专利]用于曝光后烘烤的设备

摘要

本文描述的实施方式涉及用于进行浸没场引导的曝光后烘烤工艺的方法和设备。本文描述的设备的实施方式包括界定处理容积的腔室主体。电极可被设置为与处理容积相邻，并且经由多个流体导管而将处理流体提供到处理容积以促进浸没场引导的曝光后烘烤工艺。亦提供了用于冲洗基板、使基板显影和使基板干燥的后处理腔室。

主权项

1.一种基板处理设备，包含：腔室主体，界定处理容积，其中所述处理容积的长轴线垂直地定向，且所述处理容积的短轴线水平地定向；可移动的门，耦接到所述腔室主体；第一电极，耦接到所述门，所述第一电极被配置为在其上支撑基板；第二电极，耦接到所述腔室主体，所述第二电极至少部分地界定所述处理容积；多个第一流体口，形成在与所述处理容积相邻的所述腔室主体的侧壁中；及多个第二流体口，形成在与所述处理容积相邻的所述腔室主体的所述侧壁中并与所述多个第一流体口相对。