[发明专利]显微镜的光学路径中盖玻片的倾斜度测量和校正有效

专利信息
申请号: 201780041024.3 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN109416461B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: J.西本摩根;T.卡尔克布伦纳 申请(专利权)人: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00;G02B21/24;G02B21/36
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种在显微镜(1)的光学路径中调整样品保持件(7)的方法,其中将照明辐射(BS)中的至少一个束指引到样品保持件(7)上;通过检测器(19)检测由样品保持件(7)反射的一部分照明辐射(BSref)并且确定检测的照明辐射(BSref)的测量值;根据测量值,确定关于光学路径的样品保持件(7)的实际的目前位置;将确定的实际位置与期望的位置比较,并且产生用于修改实际的位置的控制命令,通过执行该控制命令将样品保持件(7)移动到期望的位置中。
搜索关键词: 显微镜 光学 路径 盖玻片 倾斜度 测量 校正
【主权项】:
1.一种方法,用于在显微镜(1)的束路径中调整样品保持件(7),其中将照明辐射(BS)中的至少一个束指引到所述样品保持件(7)上,通过检测器(19)捕获由所述样品保持件(7)反射的所述照明辐射的分量(BSref)并且确定捕获的照明辐射(BSref)的测量值;取决于所述测量值确立所述样品保持件(7)关于所述束路径的目前的实际的定位方式,将确立的实际的定位方式与预期的定位方式比较,并且产生用于修改所述实际的定位方式的控制命令,所述控制命令的执行引起所述样品保持件(7)移动到所述预期的定位方式中。
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