[发明专利]蔽荫掩模沉积系统及其方法有效
| 申请号： | 201780041644.7 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN109642308B | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | A·P·高希;F·瓦然;M·阿南丹;E·多诺霍;I·I·哈尤林;T·阿里;K·泰斯 | 申请（专利权）人： | 埃马金公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 顾晨昕 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种能够在衬底上形成高分辨率材料图案的直接沉积系统。来自蒸镀源的汽化原子通过蔽荫掩模中的通孔图案以按所要图案沉积于所述衬底上。所述蔽荫掩模固持于掩模卡盘中，所述掩模卡盘使所述蔽荫掩模及所述衬底能够间隔可小于10微米的距离。因此，通过所述蔽荫掩模的所述汽化原子在通过其孔隙之后很少或不展现横向散布(即，羽化)，且所述材料以相对于所述蔽荫掩模的所述孔隙图案具有非常高保真度的图案沉积于所述衬底上。 | ||
| 搜索关键词： | 蔽荫掩模 沉积 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过蔽荫掩模中的通孔布置来将材料图案沉积于衬底的第一区域上的系统，其中所述衬底包含第一主表面及包括所述第一区域的第二主表面，且其中所述蔽荫掩模包含第三主表面及包括所述通孔的第四主表面，所述系统包括：第一卡盘，其用于固持所述衬底，所述第一卡盘经设定尺寸及布置以将第一吸力选择性地施予所述第一主表面；第二卡盘，其用于固持所述蔽荫掩模，所述第二卡盘包括支架，其环绕使所述材料能够通过所述第二卡盘而到所述通孔的第一开口，所述第二卡盘经设定尺寸及布置以将第二吸力选择性地施予所述第三主表面；及对准系统，其用于控制所述第一卡盘及所述第二卡盘的相对位置以使所述蔽荫掩模及所述衬底对准。
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