[发明专利]检查衬底和检查方法有效
| 申请号： | 201780041756.2 | 申请日： | 2017-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN109416516B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | J·A·L·J·拉伊马克思;P·J·H·布鲁门;P·T·朱特;A·J·M·J·拉斯;于淼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于检查用于处理生产衬底的设备的部件的检查衬底，所述检查衬底包括：主体，所述主体具有与所述生产衬底相似的尺寸，使得所述检查衬底与所述设备兼容；照射装置，所述照射装置被嵌入在所述主体中，所述照射装置被配置为朝着所述设备的所述部件的目标区域发出辐射；成像装置，所述成像装置被嵌入在所述主体中，所述成像装置被配置为检测在所述目标区域处散射的辐射并且根据所检测到的辐射生成图像；其中，所述照射装置被配置为发出辐射，使得在所述目标区域处被镜面反射的辐射不会对由所述成像装置生成的所述图像产生贡献。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 衬底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于检查用于处理生产衬底的设备的部件的检查衬底，所述检查衬底包括：主体，所述主体具有与所述生产衬底相似的尺寸，使得所述检查衬底与所述设备兼容；照射装置，所述照射装置被嵌入在所述主体中，所述照射装置被配置为朝着所述设备的所述部件的目标区域发出辐射；成像装置，所述成像装置被嵌入在所述主体中，所述成像装置被配置为检测在所述目标区域处散射的辐射并且根据所检测到的辐射生成图像；其中，所述照射装置被配置为发出辐射，使得在所述目标区域处被镜面反射的辐射不会对由所述成像装置生成的所述图像产生贡献。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780041756.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
