[发明专利]防护膜框架和防护膜组件有效
申请号: | 201780042244.8 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN109416505B | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 田口喜弘;高村一夫;种市大树 | 申请(专利权)人: | 日本轻金属株式会社;三井化学株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;C22C21/00;C22F1/04;C25D11/04;C25D11/14;C25D11/18;G03F1/84;C22F1/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;尹明花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供:一种能够有效地抑制因贴附防护膜组件(1)而引起的曝光原版(8)的变形、且不具有复杂形状的防护膜框架(2);使用该防护膜框架的防护膜组件;以及,能够降低在聚光灯下表面晃眼的缺陷、且为了容易地进行使用前的异物附着检查等而黑色化的防护膜框架的制造方法。一种防护膜框架,其特征在于:在铝合金制框架的表面具有阳极氧化膜,该铝合金制框架由铝合金构成,该铝合金含有5.0~10.0质量%的Ca且剩余部分为铝和不可避免的杂质,该铝合金中作为分散相的Al |
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搜索关键词: | 防护 框架 组件 | ||
【主权项】:
1.一种防护膜框架,其特征在于:在铝合金制框架的表面具有阳极氧化膜,所述铝合金制框架由铝合金构成,该铝合金含有5.0~10.0质量%的Ca且剩余部分为铝和不可避免的杂质,该铝合金中作为分散相的Al4Ca相的面积(体积)率为25%以上,所述Al4Ca相的一部分的晶体结构是单斜晶,分散于所述阳极氧化膜的所述Al4Ca相被阳极氧化,所述阳极氧化膜被黑色染料染色。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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