[发明专利]使用压印光刻的纳米结构图案化在审
申请号: | 201780042278.7 | 申请日: | 2017-06-26 |
公开(公告)号: | CN109414726A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·J·沃特金斯;罗希特·科塔里 | 申请(专利权)人: | 马萨诸塞大学 |
主分类号: | B05D5/02 | 分类号: | B05D5/02;B32B3/10;B32B5/16;B32B5/30;B41M1/24 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;苏虹 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开的多个实施方案涉及制造有纹理的表面的方法,其包括将纳米颗粒墨设置在基底上。 | ||
搜索关键词: | 纳米结构图案 纳米颗粒墨 压印光刻 纹理 基底 制造 | ||
【主权项】:
1.一种制造有纹理的表面的方法,包括:将墨设置在基底上,其中所述墨包含纳米颗粒和溶胶凝胶前体;使所述墨与有纹理的模具接触,其中所述模具能够使存在于所述墨中的溶剂透过并且能够操作以吸收所述溶剂;将纹理从所述有纹理的模具转移到所述墨;以及使所述基底退火。
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