[发明专利]化合物、树脂和组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法在审
| 申请号： | 201780045311.1 | 申请日： | 2017-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN109803950A | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C271/16 | 分类号： | C07C271/16;C07C271/48;C07D311/78;C08F120/36;G03F7/031;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
一种化合物，其由下述式(0)所示，(0)(式(0)中，RY为氢原子、碳原子数1～30的烷基或碳原子数6～30的芳基，RZ为碳原子数1～60的N价的基团或单键，RT分别独立地为任选具有取代基的碳原子数1～30的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～30的芳基、任选具有取代基的碳原子数2～30的烯基、任选具有取代基的碳原子数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被所述式(0‑1)所示的基团取代而成的基团，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述烷氧基任选含有醚键、酮键或酯键，此处，RT的至少一个包含下述式(0‑1)所示的基团，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m分别独立地为0～9的整数，此处，m的至少一个为1～9的整数，N为1～4的整数，N为2以上的整数时，N个[]内的结构式任选相同或不同，r分别独立地为0～2的整数。)(0‑1)(式(0‑1)中，RX为氢原子或甲基。) |
||
| 搜索关键词： | 碳原子数 烷基 氢原子 芳基 烷氧基 烯基 羟基 氨基 电路图案 抗蚀图案 硫醇基 硫原子 卤原子 氧原子 羧酸基 树脂 单键 醚键 桥接 酮键 硝基 酯键 | ||
【主权项】：
1.一种化合物，其由下述式(0)所示，![]()
式(0)中，RY为氢原子、碳原子数1～30的烷基或碳原子数6～30的芳基，RZ为碳原子数1～60的N价的基团或单键，RT分别独立地为任选具有取代基的碳原子数1～30的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～30的芳基、任选具有取代基的碳原子数2～30的烯基、任选具有取代基的碳原子数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被所述式(0‑1)所示的基团取代而成的基团，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述烷氧基任选含有醚键、酮键或酯键，此处，RT的至少一个包含下述式(0‑1)所示的基团，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m分别独立地为0～9的整数，此处，m的至少一个为1～9的整数，N为1～4的整数，N为2以上的整数时，N个[]内的结构式任选相同或不同，r分别独立地为0～2的整数；![]()
式(0‑1)中，RX为氢原子或甲基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社，未经三菱瓦斯化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780045311.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
