[发明专利]光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201780045432.6 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN109564392B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;B·M·古伯特;E·R·鲁普斯特拉;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备，包括：‑基部框架(10)，适于将所述光刻设备(1)安装在支撑表面(9)上；‑投影系统(20)，所述投影系统包括：‑力框架(30)，‑光学元件(21)，所述光学元件能够相对于所述力框架移动，‑传感器框架(40)，所述传感器框架与所述力框架分开，‑至少一个传感器，适于监测所述光学元件，包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件(25)，‑力框架支撑件(31)，适于支撑在所述基部框架上的力框架，‑中间框架(45)，所述中间框架与所述力框架分开，‑传感器框架联接器(41)，适于将所述传感器框架耦接到所述中间框架，‑中间框架支撑件(46)，所述中间框架支撑件与所述力框架支撑件分开并且适于支撑位于所述基部框架上的所述中间框架。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 投影设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：‑基部框架，适于将所述光刻设备安装在支撑表面上，‑投影系统，所述投影系统包括：‑力框架，‑光学元件，所述光学元件能够相对于所述力框架移动，‑传感器框架，所述传感器框架与所述力框架分开，‑至少一个传感器，适于监测所述光学元件，所述至少一个传感器包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件，‑力框架支撑件，适于支撑在所述基部框架上的力框架，‑中间框架，所述中间框架与所述力框架分开，‑传感器框架联接器，适于将所述传感器框架耦接到所述中间框架，‑中间框架支撑件，所述中间框架支撑件与所述力框架支撑件分开并且适于支撑在所述基部框架上的所述中间框架。
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