[发明专利]用于涂布颗粒的装置和方法在审
| 申请号： | 201780046005.X | 申请日： | 2017-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN109477218A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | T·利布施;F·克莱内耶格尔;D·西尔贝纳格尔;S·斯特雷格 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;H01M4/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王丹丹;刘金辉 |
| 地址： | 德国莱茵河*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于通过原子层沉积涂布颗粒的装置，其包括：(a)能使颗粒与第一反应性气体接触的第一反应器和(b)能使颗粒与第二反应性气体接触的第二反应器，其中第一和第二反应器被第一和第二气闸隔开并且颗粒可从第一反应器经第一气闸传送至第二反应器，同时颗粒可从第二反应器经第二气闸传送至第一反应器。 | ||
| 搜索关键词： | 反应器 气闸 反应性气体 涂布颗粒 传送 原子层沉积 隔开 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过原子层沉积涂布颗粒的装置，其包括：(a)能使颗粒与第一反应性气体接触的第一反应器，(b)能使颗粒与第二反应性气体接触的第二反应器，和(c)位于第一和第二反应器之间的至少一个缓冲装置，其中第一和第二反应器被第一和第二气闸隔开并且颗粒可从第一反应器经第一气闸传送至第二反应器或传送至缓冲装置(c)，同时颗粒可从第二反应器经第二气闸传送至第一反应器或传送至缓冲装置(c)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
