[发明专利]用于真空沉积的设备及方法

摘要

本发明涉及一种真空沉积设备(1)，其用于在行进的基材(S)上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层，该设备包括真空沉积腔室(2)和用于使基材(5)行进穿过腔室的器件，其中，设备还包括：‑蒸气喷射涂覆器(3)，‑蒸发坩埚(4)，该蒸发坩埚(4)适于向蒸气喷射涂覆器供给包含主元素和至少一种附加元素的蒸气，‑再充料炉(9)，该再充料炉(9)适于向蒸发坩埚供给熔融态的主元素并且能够保持蒸发坩埚中恒定的液位，‑供给单元(11)，供给单元(11)适于供给固态的至少一种附加元素，并且适于向蒸发坩埚无差别地供给熔融态、固态或部分固态的至少一种附加元素。本发明还涉及一种在行进的基材上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层的过程。

主权项

1.一种真空沉积设备(1)，所述真空沉积设备(1)用于在行进的基材(S)上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层，所述设备包括真空沉积腔室(2)和用于使所述基材行进穿过所述腔室的器件，其中，所述设备还包括：‑蒸气喷射涂覆器(3)，‑蒸发坩埚(4)，所述蒸发坩埚(4)适于向所述蒸气喷射涂覆器供给包含所述主元素和所述至少一种附加元素的蒸气，‑再充料炉(9)，所述再充料炉(9)适于向所述蒸发坩埚供给熔融态的所述主元素并且能够保持所述蒸发坩埚中恒定的液位，‑供给单元(11)，所述供给单元(11)适于供给固态的所述至少一种附加元素，并且适于向所述蒸发坩埚无差别地供给熔融态、固态或部分固态的所述至少一种附加元素。