[发明专利]二苯并吡咯亚甲基硼螯合化合物、近红外线吸收材料、薄膜及有机电子器件有效
| 申请号： | 201780046614.5 | 申请日： | 2017-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109476681B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 井内俊文;青竹达也;药师寺秀典;阿部正宏;品村祥司;贞光雄一 | 申请（专利权）人： | 日本化药株式会社 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C09B23/00;C09K3/00;C09K11/06;H01L51/42;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 沈锦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的目的在于提供一种在近红外线区域具有吸收带的通过噻吩环具有B‑O螯合物结构的新颖二苯并吡咯亚甲基硼螯合化合物、以及使用其的近红外线吸收材料、薄膜、及有机电子器件。即，本发明是下述式(1)所表示的化合物。[化1] |
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| 搜索关键词： | 吡咯 甲基 硼螯合 化合物 红外线 吸收 材料 薄膜 有机 电子器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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