[发明专利]环境稳定的厚膜的化学放大抗蚀剂有效
申请号: | 201780048100.3 | 申请日: | 2017-08-07 |
公开(公告)号: | CN109844641B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | M.A.托克西;刘卫宏;卢炳宏 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 陈晰 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了环境稳定的化学放大(CA)正性抗蚀剂组合物。这些抗蚀剂组合物是基于至少两种类型的聚合物平台的共混物。第一平台是低活化能,缩醛封端的聚羟基苯乙烯(PHS)基树脂;第二平台是含有高活化能酸不稳定基团的丙烯酸酯基树脂[如丙烯酸叔丁酯(t‑BA)]。抗蚀剂组合物还含有溶解在合适溶剂中的光酸产生剂(PAG),碱猝灭剂,表面活性剂。还描述了这些抗蚀剂组合物在基底上形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法中的用途。 | ||
搜索关键词: | 环境 稳定 化学 放大 抗蚀剂 | ||
【主权项】:
1.光致抗蚀剂组合物,包含:组分(1),包含在不存在酸催化剂的情况下在(i)酚醛清漆聚合物,(ii)包含取代或未取代的羟基苯乙烯和丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯与甲基丙烯酸酯的混合物的聚合物,所述丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯被需要高活化能以解封闭的酸不稳定基团保护,和(iii)选自乙烯基醚和未取代或取代的不饱和杂脂环基的化合物之间形成的反应产物;组分(2),包含至少一种含有选自以下通式的环结构的杂环硫醇化合物:或其互变异构体,其中环结构是具有4‑8个原子的单环结构,或具有5‑20个原子的多环结构,并且其中单环结构或多环结构包含芳族,非芳族或杂芳族环,并且其中X通过单键与环偶联并且选自由CRaRb,O,S,Se,Te和NRc组成的组,或者X通过双键偶联到环中并且选自由CRa和N组成的组,并且Y选自由CRa和N组成的组,并且其中Ra,Rb和Rc独立地选自由H,具有1‑8个碳原子的取代的烷基,具有1‑8个碳原子的未取代的烷基,具有1‑8个碳原子的取代的烯基,具有1‑8个碳原子的未取代的烯基,具有1‑8个碳原子的取代的炔基,具有1‑8个碳原子的未取代的炔基,具有1‑20个碳原子的取代的芳族基团,具有1‑20个碳原子的取代的杂芳族基团,具有1‑20个碳原子的未取代的芳族基团和具有1‑20个碳原子的未取代的杂芳族基团;组分(3),包含至少一种包含下式的聚合物:其中R1是未取代或取代的烷基或未取代或取代的环烷基,R2是氢或C1至C4烷基,R3是C1至C4烷基或C2至C4亚烷基羟基部分,R4是氢或C1至C4烷基,R5是氢或C1至C4烷基,并且x,y,z和w是每种类型重复单元的摩尔%,其中x等于约30至约40摩尔%,y等于约60至约70摩尔%,z等于约0至约10摩尔%,其中x,y,z和w的总和等于100摩尔%,并且z和w的总和不超过约10摩尔%;组分(4),包含至少一种光酸产生剂添加剂,其在用波长在约365.4nm和约578.2nm之间的辐射照射下,释放出具有pKa等于或小于‑1的强酸;组分(5),包含至少一种碱添加剂;组分(6),包含选自酚醛清漆聚合物或聚乙烯基烷基醚聚合物的任选的粘合促进剂;组分(7),包含溶剂。
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