[发明专利]沉积装置和用于沉积的方法在审
| 申请号： | 201780049071.2 | 申请日： | 2017-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN109563618A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 赫伯特·利夫卡 | 申请（专利权）人： | 荷兰应用科学研究会(TNO) |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/04;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 陈鹏;石磊 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种沉积装置(1)，用于在衬底(ST)的衬底表面(ST1)上沉积物质(SB)。该沉积装置包括沉积源(20)和布置在沉积源(20)与沉积表面之间的沉积掩模(30)。沉积掩模(30)具有面向沉积源的第一掩模表面(38)和面向衬底表面(ST1)的第二掩模表面(39)。沉积掩模(30)设置有由至少一个封闭区域(34)和至少一个穿孔区域(36)限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔(37)限定，并且其中设置了衬底载体(10)，从而以使衬底的衬底表面(ST1)与第二掩模表面(39)相距一距离(D)的方式承载衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积掩模 沉积装置 衬底表面 掩模表面 沉积源 衬底 沉积 穿孔区域 衬底载体 封闭区域 空间图案 通孔 承载 相距 | ||
【主权项】：
1.一种用于在衬底(ST)的衬底表面(ST1)上沉积物质(SB)的沉积装置(1)，该沉积装置包括沉积源(20)和布置在所述沉积源(20)与所述沉积表面之间的沉积掩模(30)，该沉积掩模(30)具有面向所述沉积源的第一掩模表面(38)和面向所述衬底表面(ST1)的第二掩模表面(39)，其中，所述沉积掩模(30)具有由至少一个封闭区域(34)和至少一个穿孔区域(36)限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔(37)限定，并且其中，提供了衬底载体(10、70、72)，以使所述衬底的所述衬底表面(ST1)与所述第二掩模表面(39)相距一距离(D)的方式承载所述衬底，使得在所述沉积装置的操作中，根据与所述沉积掩模的由所述至少一个封闭区域和所述至少一个穿孔区域限定的所述空间图案相对应的空间图案来沉积所述物质，其中，所述至少一个封闭区域对应于第一衬底表面上的与所述沉积掩模的所述至少一个封闭区域同构的至少第一区域，并且所述至少一个穿孔区域对应于所述第一衬底表面上的与所述沉积掩模的所述至少一个穿孔区域同构的至少第二区域，其中所述至少第二区域中的沉积层基本上是均匀的。
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