[发明专利]用于等离子体室的隔离栅网有效
| 申请号： | 201780049926.1 | 申请日： | 2017-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN109564845B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 维贾伊·M·瓦尼亚普拉;马绍铭;弗拉迪米尔·纳戈尔尼;赖恩·M·帕库尔斯基 | 申请（专利权）人： | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人： | 崔晓光 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了用于等离子体处理装置的隔离栅网。在一些实施方案中，等离子体处理装置包括等离子体室。等离子体处理装置包括处理室。处理室可以与等离子体室隔开。该装置可以包括隔离栅网。隔离栅网可以将等离子体室与处理室隔开。该装置可以包括温度控制系统。温度控制系统可以配置成调节隔离栅网的温度以影响对基底的等离子体处理的均匀性。在一些实施方案中，隔离栅网可以在隔离栅网的整个截面上具有变化厚度的轮廓，以影响中性物质的通过隔离栅网的流动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 隔离 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，包括：等离子体室；处理室，所述处理室与所述等离子体室隔开；隔离栅网，所述隔离栅网将所述等离子体室与所述处理室隔开；温度控制系统，所述温度控制系统配置成调节所述隔离栅网的温度以影响对基底的等离子体处理的均匀性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司，未经玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780049926.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
