[发明专利]用于等离子体处理腔室的等离子体屏在审
申请号: | 201780052603.8 | 申请日: | 2017-08-23 |
公开(公告)号: | CN109643630A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | M·T·尼科尔斯;I·尤瑟夫;J·A·奥马利三世;R·丁德萨;S·E·巴巴扬 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开的实施例涉及使用在等离子体处理腔室中的等离子体屏,此等离子体屏具有改进的流导与均匀性。一个实施例提供一种等离子体屏。等离子体屏包含圆形板,圆形板具有中心开口与外径。形成穿过圆形板的多个切口。多个切口被布置于两个或更多个同心圆中。每一同心圆包含均等数量的切口。 | ||
搜索关键词: | 等离子体屏 圆形板 等离子体处理腔室 同心圆 中心开口 均匀性 流导 穿过 改进 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体屏,包含:圆形板,所述圆形板具有中心开口与外径,其中多个切口被形成为穿过所述圆形板,所述多个切口被布置为两个或更多个同心圆,且每一同心圆中的所述多个切口的总切口面积基本上相等。
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