[发明专利]含荧光体薄膜及背光单元有效

专利信息
申请号: 201780053700.9 申请日: 2017-08-30
公开(公告)号: CN109661598B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 关口惠;大场达也;柿下健一;楠本将之;筑紫翔 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/13357;H01L33/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 吴倩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种即使在含有量子点等荧光体的薄膜中形成层叠结构之后剪裁成所期望的尺寸的情况下也能够抑制荧光体的劣化的含荧光体薄膜、以及具备该含荧光体薄膜作为波长转换部件的背光单元。本发明的含荧光体薄膜具有:含荧光体层,其离散配置有多个包含暴露于氧时与氧反应而劣化的荧光体的荧光区域,并在离散配置的多个荧光区域之间配置有对氧具有不透过性的树脂层;及第1基材薄膜及第2基材薄膜,分别层叠在含荧光体层的两个主表面上;树脂层的努氏硬度为115N/mm2~285N/mm2,蠕变恢复率为22%以下,弹性恢复率为60%以上。
搜索关键词: 荧光 薄膜 背光 单元
【主权项】:
1.一种含荧光体薄膜,其具有:含荧光体层,其离散配置有多个包含荧光体的荧光区域,所述荧光体暴露于氧中时与氧反应而劣化,并在离散配置的多个所述荧光区域之间配置有对氧具有不透过性的树脂层;及层叠在所述含荧光体层的一个主表面上的第1基材薄膜及层叠在另一个主表面上的第2基材薄膜;所述树脂层的努氏硬度为115N/mm2~285N/mm2,蠕变恢复率为22%以下,弹性恢复率为60%以上。
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