[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201780054941.5 | 申请日： | 2017-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN109690405B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 西田登喜雄;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08F220/18;C08F220/24;C08F220/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;李照明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1)～式(3)所示的结构单元的共聚物、交联剂、有机酸催化剂、以及溶剂。(式中，R |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1)～式(3)所示的结构单元的共聚物，交联剂，有机酸催化剂，以及溶剂；![]()
式中，R1各自独立地表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数1～3的亚烷基，A表示保护基，R3表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架、三环癸烷骨架或降冰片烷骨架的有机基，R4表示至少1个氢原子被氟基取代、并且还可以具有至少1个羟基作为取代基的碳原子数1～12的直链状、支链状或环状的有机基。
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