[发明专利]定位系统和光刻设备有效
| 申请号： | 201780055152.3 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109690407B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | K·F·巴斯特拉安;Y-S·黄;A·F·J·德格罗特;M·金姆;J·A·F·M·西蒙斯;T·A·M·瑞杰尔;R·J·M·拉默斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于对物体进行定位的定位系统。定位系统包括工作台、平衡质量块和致动器系统。工作台用于保持物体。致动器系统被布置为在第一方向上驱动工作台，同时在与第一方向相反的第二方向上驱动平衡质量块。工作台在移动范围内在所述第一方向上可移动。当工作台正在第一方向上移动并且处于移动范围的末端处时，定位系统被布置为使工作台正面撞向所述平衡质量块。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于对物体进行定位的定位系统，所述定位系统包括：工作台，被配置为保持所述物体，所述工作台在移动范围内在第一方向上是可移动的；平衡质量块；以及致动器系统，被配置为在所述第一方向上驱动所述工作台，同时在与所述第一方向相反的第二方向上驱动所述平衡质量块，其中，当所述工作台正在所述第一方向上移动并且处于所述移动范围的末端处时，所述定位系统被布置为使所述工作台正面撞向所述平衡质量块。
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