[发明专利]用于X射线成像的源光栅在审
| 申请号： | 201780055442.8 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109688930A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | T·扬森;R·普罗克绍 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G21K1/06;G03F1/22;G02B5/18 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于干涉型X射线成像线缆的源光栅结构(G0)，当暴露于X射线辐射时在光栅结构的表面(S)后面生成非均匀强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 源光栅 光栅结构 强度分布 非均匀 干涉型 线缆 暴露 | ||
【主权项】：
1.一种用于干涉型X射线成像线缆的源光栅结构(G0)，当暴露于X射线辐射时在所述光栅结构的表面(S)后面生成非均匀强度分布。
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