[发明专利]用于X射线成像的源光栅在审
申请号: | 201780055442.8 | 申请日: | 2017-08-30 |
公开(公告)号: | CN109688930A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | T·扬森;R·普罗克绍 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G21K1/06;G03F1/22;G02B5/18 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种用于干涉型X射线成像线缆的源光栅结构(G0),当暴露于X射线辐射时在光栅结构的表面(S)后面生成非均匀强度分布。 | ||
搜索关键词: | 源光栅 光栅结构 强度分布 非均匀 干涉型 线缆 暴露 | ||
【主权项】:
1.一种用于干涉型X射线成像线缆的源光栅结构(G0),当暴露于X射线辐射时在所述光栅结构的表面(S)后面生成非均匀强度分布。
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