[发明专利]量测方法、设备和计算机程序有效
| 申请号： | 201780055479.0 | 申请日： | 2017-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN109690409B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | S·塔拉布林;S·P·S·哈斯廷斯;A·E·A·库伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种确定衬底上目标的特性的方法以及对应的量测设备和计算机程序。该方法包括根据成对的互补像素确定多个强度非对称性测量，成对的互补像素包括目标的第一图像中的第一图像像素和目标的第二图像中的第二图像像素。从由目标散射的第一辐射获得第一图像，且从由目标散射的第二辐射获得第二图像，第一辐射和第二辐射包括互补的非零阶衍射。然后根据所述多个强度非对称性测量确定目标的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 设备 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种确定衬底上的目标的特性的方法，包括：根据成对的互补像素确定多个强度非对称性测量，所述成对的互补像素包括在所述目标的第一图像中的第一图像像素和在所述目标的第二图像中的第二图像像素，所述第一图像已经从由所述目标散射的第一辐射获得，以及所述第二图像已经从由所述目标散射的第二辐射获得，所述第一辐射和所述第二辐射包括互补的非零阶衍射；以及根据所述多个强度非对称性测量来确定所述目标的所述特性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780055479.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
