[发明专利]用于导出校正的方法和设备、用于确定结构性质的方法和设备、器件制造方法

摘要

光学系统传送照射辐射并收集在与衬底上的目标结构的相互作用之后的辐射。测量强度轮廓被用来计算结构的性质的测量。光学系统可以包括固体浸没透镜。在校准方法中，控制光学系统以使用第一照射轮廓来获得第一强度轮廓，并使用第二照射轮廓来获得第二强度轮廓。轮廓被用来导出用于减轻重影反射影响的校正。使用例如不同取向的半月形照射轮廓，该方法甚至在SIL将引起全内反射的情况下也可以测量重影反射。光学系统可以包括污染物检测系统，以基于所接收的散射检测辐射来控制移动。光学系统可以包括具有介电涂层的光学组件，以增强渐逝波相互作用。

主权项

1.一种导出用于光学系统的校正的方法，所述光学系统可操作用于将照射辐射传送到目标结构并收集在与所述目标结构的相互作用之后的辐射，所述方法包括：获得第一强度轮廓，所述第一强度轮廓表示在根据第一照射轮廓照射所述光学系统的光瞳时由所述光学系统收集的辐射；获得第二强度轮廓，所述第二强度轮廓表示在根据不同于所述第一照射轮廓的第二照射轮廓照射所述光学系统的所述光瞳时由所述光学系统收集的辐射；以及使用所述第一强度轮廓和所述第二强度轮廓来导出校正，与和目标结构的相互作用相反，所述校正用于减轻所述照射辐射与所述光学系统的相互作用的影响。