[发明专利]确定结构的特性的方法、检查设备以及器件制造方法

摘要

光学系统和检测器捕获通过与目标结构交互而修改的辐射的分布。使用观测到的分布以计算结构的特性(例如CD或套刻)。与光学系统相关的条件误差(例如聚焦误差)在观测值之间可变。记录特定于每个捕获的真实条件误差并用于对于由特定于观测值的条件误差所引起的所观测分布的偏离而应用校正。在一个实际示例中校正是基于相对于单位聚焦误差之前限定的单位校正。该单位校正可以根据特定于观测值的聚焦误差而线性地缩放。

主权项

1.一种确定结构的特性的方法，所述方法包括：使得光学系统收集通过与所述结构交互而修改的辐射；使得在所述光学系统的捕获平面中观测所收集的辐射的分布，其中与所述光学系统相关联的条件误差在观测之间可变；以及基于辐射的至少一个观测分布，计算所述结构的所述特性，所述计算包括对于所述分布的、因特定于所述观测的所述条件误差所致的偏离的校正。