[发明专利]使用过氧化氢作为主掺杂剂的共伴气体或吹扫气体进行原位清洁以尽量减少离子源中的积碳有效
| 申请号： | 201780057110.3 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN109716479B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 尼尔·科尔文;哲-简·谢 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 刘新宇;寿宁 |
| 地址： | 美国马萨诸*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于改善离子注入性能的离子源组件和方法。该离子源组件具有离子源腔室，并且源气体供应源向离子源腔室提供分子碳源气体。激发源激发分子碳源气体，形成碳离子和原子碳。引出电极从离子源腔室中引出碳离子，形成离子束。过氧化氢共伴气体供应源向离子源腔室提供过氧化氢共伴气体。过氧化氢共伴气体分解并与原子碳反应，在离子源腔室内形成碳氢化合物。进一步引入惰性气体并使其离子化，以抵消因过氧化氢分解所致的阴极氧化。真空泵除去碳氢化合物，其中减少原子碳的沉积并且延长离子源腔室的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 过氧化氢 为主 掺杂 气体 进行 原位 清洁 尽量 减少 离子源 中的 | ||
【主权项】：
1.一种用于改善离子注入性能的离子源组件，所述离子源组件包括：离子源腔室；源气体供应源，其配置成向离子源腔室提供分子碳源气体；源气体流控制器，其配置成控制分子碳源气体流向离子源腔室；激发源，其配置成激发分子碳源气体，在其中形成碳离子和原子碳；引出电极，其配置成从离子源腔室中引出碳离子，在其中形成离子束；过氧化氢共伴气体供应源，其配置成向离子源腔室提供预定浓度的过氧化氢气体；过氧化氢共伴气体流控制器，其配置成控制过氧化氢气体流向离子源腔室，其中过氧化氢气体配置成在离子源腔室内分解并与来自离子源腔室中的分子碳源气体的原子碳反应，其中在离子源腔室内形成碳氢化合物；以及真空泵系统，其配置成从离子源腔室中除去碳氢化合物，其中，减少离子源腔室内的原子碳沉积并且延长离子源腔室的使用寿命。
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