[发明专利]用作沉积掩模的合金金属箔、沉积掩模及其制造方法以及利用该沉积掩模的有机发光元件的制造方法在审
| 申请号： | 201780058822.7 | 申请日： | 2017-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN109790628A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 郑官颢;梁洪硕;李载坤;金县泰;金基洙 | 申请（专利权）人： | POSCO公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/44;C25D1/10;B21B1/40;C22C38/08;C23C14/04;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 刘成春;张晶 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在金属箔形成多个微细的通孔的沉积掩模、用于该沉积掩模的金属箔及其制造方法以及利用所述沉积掩模制造有机EL元件的方法，提供一种用作沉积掩模的Fe‑Ni合金金属箔，其包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可避免的杂质，所述金属箔在至少一面上包括图案形成区域和未涂覆区域，相比所述未涂覆区域，所述图案形成区域的厚度薄、表面粗糙度值小，所述未涂覆区域位于金属箔的边缘并包围图案形成区域。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积掩模 金属箔 图案形成区域 未涂覆区域 制造 有机发光元件 表面粗糙度 有机EL元件 合金金属 微细 通孔 包围 | ||
【主权项】：
1.一种用作沉积掩模的Fe‑Ni合金金属箔，其包括34～46重量％的Ni、余量的Fe及不可避免的杂质，所述金属箔在至少一个面上包括图案形成区域和未涂覆区域，相比所述未涂覆区域，所述图案形成区域的厚度薄、表面粗糙度值小，所述未涂覆区域位于所述金属箔的边缘并包围图案形成区域。
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