[发明专利]包括纳米层压涂层的制品有效
| 申请号： | 201780059183.6 | 申请日： | 2017-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN109791220B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | T·普瓦里耶;T·施密特;L·马丁努;J·克莱伯格-赛皮哈;K·谢勒;W·特罗蒂尔-拉普安特;A·德乌 | 申请（专利权）人： | 蒙特利尔综合理工学院公司;依视路国际公司 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;B29D11/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;张振军 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种包括纳米层压涂层的制品，其中所述纳米层压涂层具有范围从20nm至500nm的总厚度并且包括至少一对由相邻的第一和第二层构成的层以及至少三个层，所述第一层是通过氧化硅的蒸发、尤其是SiO |
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| 搜索关键词： | 包括 纳米 层压 涂层 制品 | ||
【主权项】：
1.一种包括纳米层压涂层的制品，其中，所述纳米层压涂层具有范围从20nm至500nm的总厚度并且包括至少一对由相邻的第一和第二层构成的层以及至少三个层，所述第一层是通过氧化硅、尤其是SiO2的蒸发和沉积获得的无机二氧化硅层，并且所述第二层是在离子或等离子体辅助下通过有机硅化合物或有机硅化合物的混合物的沉积获得的基于硅的有机‑无机层，并且其中，作为整体的所述纳米层压涂层的折射率在550nm处低于1.58。
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