[发明专利]光刻设备在审
| 申请号： | 201780060159.4 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN109804313A | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | F·范德梅尤伦;E·J·阿勒马克;H·H·M·考克斯;M·A·W·丘珀斯;J·德胡戈;G·C·德维雷斯;P·C·H·德威特;S·C·R·德克斯;R·C·G·吉杰曾;D·V·P·赫姆舒特;C·A·霍根达姆;A·H·凯沃特斯;R·W·L·拉法雷;A·L·C·勒鲁克斯;P·W·P·里姆彭斯;J·V·奥弗坎普;C·L·瓦伦丁;K·范伯克尔;S·H·范德莫伦;J·C·G·范德桑登;H·K·范德舒特;D·F·弗勒斯;E·A·R·威斯特豪斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 光刻设备 冷却设备 冷却元件 曝光区域 衬底去除 投射图案 投影系统 辐射束 配置 冷却 邻近 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括投影系统，所述投影系统被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域，所述光刻设备进一步包括用于冷却所述衬底的冷却设备，其中所述冷却设备包括：冷却元件，位于所述衬底台上方并且邻近于所述曝光区域，所述冷却元件被配置为从被保持在所述衬底台上的衬底去除热量。
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