[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法、高分子化合物及共聚物有效
| 申请号： | 201780061520.5 | 申请日： | 2017-10-04 |
| 公开（公告）号： | CN109791359B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 长峰高志;仁藤豪人;藤崎真史;藤井达也;福村友贵;小岛孝裕;铃木一生;池田卓也;阮庆信 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;C08F20/26;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，包含具有以通式(a0－1)表示的结构单元的高分子化合物。式(a0－1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基。Va |
||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 高分子化合物 共聚物 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，其是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂成分(A1)，所述树脂成分(A1)具有以下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，【化1】![]()
式中，R为氢原子、碳数1～5的烷基或碳数1～5的卤代烷基，Va0为可具有醚键的2价烃基，na0为0～2的整数，Ra00为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团，Ra01为可具有取代基的烃基，Ra02为可具有取代基的烃基，Ra01与Ra02可以相互键合而形成环结构，Ya0为季碳原子，Ra031、Ra032和Ra033分别独立地为可具有取代基的烃基，其中，Ra031、Ra032和Ra033中的1个以上为至少具有极性基团的烃基，*表示键。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780061520.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
