[发明专利]5-HT2C受体激动剂和组合物及使用方法有效
申请号: | 201780062933.5 | 申请日: | 2017-08-18 |
公开(公告)号: | CN109952301B | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | G·森普尔;A·S·任;T·O·施拉德;M·卡萨姆;X·朱 | 申请(专利权)人: | 艾尼纳制药公司 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;A61P25/34;A61K31/4375;A61P3/04;A61P25/00;A61P25/30 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及式A化合物和其药物组合物,其调节5‑HT |
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搜索关键词: | ht2c 受体 激动剂 组合 使用方法 | ||
【主权项】:
1.一种选自式A化合物及其药学上可接受的盐、溶剂化物和水合物的化合物:
其中,n是1或2;R6、R7和R8各自独立地选自氢和C1‑C6烷基;R9为氢或C1‑C6烷基;X2是N或CR2;X3为N或CR3;X4为N或CR4;其中R1、R2、R3和R4中的每一个独立地选自:a)氢;b)C1‑C6烷基,其任选地被各自独立地选自以下的一个或多个基团取代:任选被卤素取代的C6‑C10芳基;任选被3‑至8‑元杂环烷基取代的C1‑C6烷氧基;C3‑C8环烷基;OH;CN;3‑至8‑元杂环烷基;5‑至10‑元杂芳基;和卤素;c)C2‑C6烯基;d)C3‑C8环烷基;e)任选被卤素取代的5‑至10‑元杂芳基;f)C6‑C10芳基,其任选地被各自独立地选自以下的一个或多个基团取代:卤素,任选地被卤素取代的C1‑C6烷氧基,和任选地被卤素取代的C1‑C6烷基,其中C6‑C10芳基任选与杂环稠合;g)任选被卤素取代的CONHC1‑C6烷基;h)NH(CO)R5,其中R5选自C1‑C6烷氧基,任选地被C6‑C10芳基取代的C1‑C6烷基,任选地被卤素取代的C6‑C10芳基,3‑至8‑元杂环烷基,和C3‑C8环烷基;i)卤素;和j)C1‑C6烷硫基;其中X2、X3和X4中的至少一个但不多于两个是N,并且要么(i)X2、X3和X4中只有一个是N,并且R1、R2、R3和R4中的至少一个是氢;要么(ii)只有X2和X4是N。
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