[发明专利]包括耐磨层的层压件、包括所述层压件的设备及制造所述层压件的方法在审
| 申请号： | 201780063219.8 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109844572A | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | M·A·维尔斯储雷恩 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/14;G02B1/118 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种层压件(100)，其包括设置在光学透射衬底(103)的表面(102)上的耐磨层(101)，其中，所述层包括延伸远离所述表面的材料的空间上分离的突起(104)的图案，以及所述突起之间插入的二氧化硅(105)，其中，所述材料具有根据ASTM E384努氏硬度标准测量的大于二氧化硅的努氏硬度的努氏硬度。还公开了一种包括包含层压件的光学透射部件的设备，以及制造所述层压件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 层压件 努氏硬度 二氧化硅 耐磨层 突起 光学透射部件 标准测量 透射 衬底 压件 种层 制造 图案 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种层压件(100)，包括被设置在光学透射衬底(103)的表面(102)上的耐磨层(101)，其中，所述层包括材料的延伸远离所述表面的在空间上分离的突起(104)的图案，以及被插入在所述突起之间的二氧化硅(105)，其中，所述材料具有根据ASTM E384努氏硬度标准测量的大于所述二氧化硅的努氏硬度的努氏硬度。
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