[发明专利]用于产生在度量测量中使用的经编程缺陷的方法及系统有效
| 申请号： | 201780064585.5 | 申请日： | 2017-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN109964177B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 宏·萧;N·古特曼 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于产生且实施经编程缺陷的系统包含光刻工具，所述光刻工具经配置以在样本上形成包含第一阵列图案及第二阵列图案的多图案结构。所述第一阵列图案或所述第二阵列图案含有经编程缺陷以将所述第一阵列图案与所述第二阵列图案区分开。所述系统包含度量工具，所述度量工具经配置以获取所述第一阵列图案及所述第二阵列图案的一或多个图像，所述一或多个图像具有含有所述经编程缺陷的视场。所述系统包含包括一或多个处理器的控制器。所述一或多个处理器经配置以从所述度量工具接收所述第一阵列图案及所述第二阵列图案的所述图像，且确定与所述第一阵列图案或所述第二阵列图案相关联的度量参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 度量 测量 使用 编程 缺陷 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种系统，其包括：光刻工具，其经配置以在样本上形成包含第一阵列图案及第二阵列图案的多图案结构，其中所述第一阵列图案或所述第二阵列图案中的至少一者含有经编程缺陷以将所述第一阵列图案与所述第二阵列图案区分开；度量工具，其经配置以获取所述第一阵列图案及所述第二阵列图案的一或多个图像，所述一或多个图像具有含有所述经编程缺陷的视场；及控制器，其包含一或多个处理器，其中所述一或多个处理器经配置以致使所述一或多个处理器执行存储器中所含有的一组程序指令，其中所述一组程序指令经配置以致使所述一或多个处理器：从所述度量工具接收所述第一阵列图案及所述第二阵列图案的所述一或多个图像；及确定与所述第一阵列图案及所述第二阵列图案中的至少一者相关联的一或多个度量参数。
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