[发明专利]氧化物烧结材料及其制造方法、溅射靶和制造半导体器件的方法有效
| 申请号： | 201780067435.X | 申请日： | 2017-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN109906211B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 宫永美纪;绵谷研一;粟田英章;德田一弥;富永爱子 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C23C14/34;H01L21/336;H01L21/363;H01L29/786 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供：一种包含In |
||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 材料 及其 制造 方法 溅射 半导体器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友电气工业株式会社，未经住友电气工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780067435.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
