[发明专利]用于晶片检验临界区域的产生的方法及系统有效

专利信息
申请号: 201780068638.0 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN109952635B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: P·俄珀鲁里;R·马内帕利;A·V·库尔卡尼;S·巴纳吉;J·柯克兰 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/67
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示一种方法,其包含:接收一或多组晶片数据;从所述一或多组晶片数据中的一或多个层中的一或多个形状识别一或多个基元;将所述一或多个基元中的每一者分类为特定基元类型;识别所述一或多个基元中的每一者的一或多个基元特性;产生所述一或多个基元的基元数据库;基于所述基元数据库来产生一或多个规则;接收一或多组设计数据;将所述一或多个规则应用于所述一或多组设计数据以识别一或多个临界区域;及产生用于检验子系统的包含所述一或多个临界区域的一或多个晶片检验方案。
搜索关键词: 用于 晶片 检验 临界 区域 产生 方法 系统
【主权项】:
1.一种用于产生晶片检验的一或多个晶片检验方案的系统,其包括:检验子系统;及控制器,其通信地耦合到所述检验子系统,其中所述控制器包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器,其中所述程序指令经配置以致使所述一或多个处理器:接收一或多组晶片数据,其中所述一或多组晶片数据包含一或多个层,其中所述一或多个层包含一或多个形状;从所述一或多个形状识别一或多个基元;将所述一或多个基元中的每一者分类为特定基元类型;识别所述一或多个基元中的每一者的一或多个基元特性;产生所述一或多个基元的基元数据库,其中所述基元数据库包含所述一或多个基元中的每一者的所述特定基元类型及所述一或多个基元特性;基于所述基元数据库来产生一或多个规则;接收一或多组设计数据;将所述一或多个规则应用于所述一或多组设计数据以识别一或多个临界区域;及产生用于所述检验子系统的一或多个晶片检验方案,其中所述一或多个晶片检验方案包含所述一或多个临界区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科磊股份有限公司,未经科磊股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780068638.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top